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武汉视科受邀参加NI半导体测试研讨会

日期: 2016-03-04
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       3月4日下午, 美国国家仪器公司(NI)在光谷凯悦酒店召开了NI半导体测试武汉站研讨会。来自华为、武汉梦芯、华中科技大学等单位的近60位相关行业同仁参加了会议。武汉视科作为NI在华中地区的重要合作伙伴也受邀参会。


       本次会议上,由NI工程师为大家介绍了NI公司最新推出的STS系列半导体测试解决方案,该方案覆盖了从研发验证到量产整个半导体开发流程的测试验证,已经在华为和武汉新芯等半导体企业成功应用。另外会上武汉新芯半导体战略与业务拓展部总监、“千人计划”专家安西琳为与会来宾做了<非易失储存器技术与发展>的主旨演讲,系统地分享了行业现状、趋势、以及对行业的思考和分析。经过约4小时的研讨分享,现场来宾对NI在半导体测试领域的发展表示了肯定。武汉视科也将同NI一起,将半导体测试的解决方案更好的推向市场,服务更多的有需求的用户。



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